................................... ...
1- طريقة التبخير الحراري في الفراغ
Thermal Evaporation In Vacuum
2- طريقة الترذيذ
Sputtering Method
3- الطرق الكيميائية
Chemical Methods
أ- طريقة الترسيب الكهربائي ( أغشية الكاثود )
Electrolic Deposition -Cathodic films
ب-طريقة الترسيب الكهربائي ( أغشية الأنود)
Electrolic Deposition -Anodic films
ج- طريقة الترسيب الكيميائي الحراري
Chemical Spray Pyrolysis
ولكوني من الباحثين في هذه الطريقة سأتطرق إلى مميزاتها .
مميزات طريقة الترسيب الكيميائي الحراري
1- يتم تحضير هذه الأغشية في ظروف إعتيادية
2-بساطة الأحهزة المستخدمة عند التحضير
3- غنها طريقة جيدة للحصول على اغشية مزيج مادتين أو أكثر وبنسب مختلفة
4-يجب أن تكون درجة الحرارة مناسبة لإكتمال النماء البلوري على السطوح الزجاجية
5-يمكن الحصول على أغشية ذات مساحات سطحية كبيرة
6-إن هذه التقنية أفضل لتحضير أغشية دات إنعكاسية قليلة للإستخدام في الخلايا الشمسية من تقنية التبخير في الفراغ
لقد أظهرت هذه الطريقة كفاءة عالية في تحضير العديد من أغشية أكاسيد المعادن مثل أكاسيد كل من الحديد والنحاس والبزموث والسليكون
الجمعة سبتمبر 14, 2012 10:01 am من طرف محمد المندلاوي
» انواع دايود الليزر
الجمعة سبتمبر 14, 2012 9:58 am من طرف محمد المندلاوي
» ماهو الغشاء الرقيق؟
الجمعة سبتمبر 14, 2012 9:49 am من طرف محمد المندلاوي
» حروف تدل على شخصية المراة ؟؟
الجمعة أكتوبر 29, 2010 10:57 am من طرف الودق
» خاطرة ...!
الأربعاء أكتوبر 13, 2010 12:30 pm من طرف mazin2010
» قصة .. توقف لسانه عن الكلام عندما علم أنها ابنة 17 سنة
الأربعاء أكتوبر 06, 2010 3:08 pm من طرف mazin2010
» شاب يخاطب المساجد ...!!!! كم هو جميل ..؟؟!!!
الأربعاء أكتوبر 06, 2010 3:07 pm من طرف mazin2010
» حدث في 25 سبتمبر
الأربعاء أكتوبر 06, 2010 3:02 pm من طرف mazin2010
» حدث في 16 شوال
الأربعاء أكتوبر 06, 2010 2:59 pm من طرف mazin2010